A Intel será a primeira companhia a implementar a Litografia Ultravioleta Extrema de Alta Abertura Numérica, ou EUV High NA. Esse nome pomposo representa o mais recente esforço da empresa para diminuir os nanômetros (nm) dos seus chips. Com a tecnologia, a Intel produzirá unidades com menos de 2 nm.
Para tanto, foi necessário a aquisição de uma máquina de fabricação de chips da única companhia capaz de fornecer tecnologia de EUV High NA: a holandesa ASML. A primeira fase da montagem do equipamento, realizada nas instalações da Intel em Oregon (EUA), foi concluída recentemente.
Uma máquina de 150 toneladas
Como as imagens de divulgação deixam claro, a máquina é gigantesca. Rob Kelton, da área de comunicações da Intel, destaca que o equipamento é maior do que um ônibus de dois andares e pesa mais do que uma baleia azul, ou seja, cerca de 150 toneladas.
O próximo passo consiste em colocar a Twinscan Exe:5000 EUV High NA, como a máquina da ASML é chamada, em operação. Mas isso só deve acontecer no final do ano.
Quando a máquina estiver pronta para uso, a Intel estará mais próxima de produzir wafers com tecnologia Intel 14A, equivalente a apenas 1,4 nm.
É um objetivo audacioso. Uma litografia inferior a 2 nanômetros torna os transistores tão pequenos e próximos uns dos outros que o risco de instabilidade causadas por escape de energia é grande.
A produção de chips com uma litografia tão desafiadora deve seguir parâmetros avançadíssimos de construção, portanto. É aí que a tecnologia EUV High NA ganha sentido.
O que a tecnologia EUV High NA faz?
A litografia EUV (Extreme Ultraviolet Lithography) já é utilizada pela indústria de semicondutores. Ela se baseia no uso de uma luz com comprimento de onda muito curto para permitir a fabricação de chips com 10 nanômetros ou menos.
Tendo uma abertura numérica maior que o padrão atual, o mecanismo óptico que faz esse trabalho fica ainda mais preciso na captura e direcionamento da luz, permitindo a construção de transistores 1,7x menores que os atuais. Além disso, a estrutura de silício pode abrigar 2,9x mais transistores.
Para chegar a isso, a máquina precisa fazer uma combinação complexa de espelhos para que o feixe de luz atinja o wafer na proporção certa. Essa é uma das razões pelas quais a montagem da máquina é um processo tão demorado.
Mas a expectativa da Intel é a de que esse trabalho seja concluído até o fim de 2024. Em 2025, a companhia pretende fabricar os primeiros chips com tecnologia Intel 18A (de 1,8 nm) e, na sequência, produzir unidades no padrão Intel 14A, ainda que em escala experimental.
Intel monta primeira máquina para fabricar chips com menos de 2 nanômetros
